基于单片机的CF卡文件存储
随着计算机应用技术的飞速发展，移动存储设备得到了广泛的应用。其中CF(Compact Flash)卡诞生于1...
日期：2023-07-21阅读：246
反射超声波检测系统
另外一种键合界面空洞检测方法是超声波显微镜，是一种无损伤探测技术，广泛应用于各种材料检测[2...
日期：2023-07-21阅读：105
不同清洗液的亲水处理过程
硅片亲水处理前要进行化学清洗，亲水处理必须满足三个基本提条件：（1）亲水处理溶液具有氧化作...
日期：2023-07-21阅读：237
亲水处理的机理
从键合工艺与键合机理看出，室温下硅片的贴合对整个键合过程都有重要作用。硅-硅直接键合的预键...
日期：2023-07-21阅读：259
硅片表面颗粒引起的空洞
如果硅片键合工艺不是在超净环境中进行的，则硅片表面会被尘埃、硅或硅的氧化物颗粒等沾污，沾污...
日期：2023-07-21阅读：243
室温键合所需的平整度条件
对于表面粗糙度较大的硅片，因为有限的弹性变形会使界面产生空洞，甚至两个硅片键合失败，因此，...
日期：2023-07-21阅读：86
抛光硅片的表面起伏
硅-硅直接键合技术是利用分子间的短程作用力（如H键等）把两个硅片的表面拉在一起，硅片表面的好...
日期：2023-07-21阅读：79
中国电子制造技术水平与国际差距有多大？
现代电子制造与SMT（表面贴装技术）密不可分，任何一款手机、任何一台电脑的制造，都离不开SMT。...
日期：2023-07-21阅读：142
关注你的设计步骤：IC技术和工具面临经济瓶颈
半导体制造工艺已经到达65nm技术节点，但是利用这种技术开发产品所需的成本是如此之高，以致于只...
日期：2023-07-21阅读：138
组装测试技术应用前景分析
组装测试技术应用前景分析 目前在电子组装测试领域中使用的测试技术种类繁多，常用的有手工视...
日期：2023-07-21阅读：71
无铅回流焊接工艺温度曲线冷却速率至关重要
良好可控的回流工艺影响焊接质量。对无铅焊接，各种不同的回流参数及工艺、材料与成品率和质量的...
日期：2023-07-21阅读：232
基于TOC理论的OEE的应用
摘 要：在介绍OEE与TOC理论的基础上，将两者的优缺点互补，引入IEE概念进行瓶颈诊断，开展了TPM...
日期：2023-07-21阅读：191
高速IC激光打标机的研制
目前市场上有多种IC料带激光打标机，但随着IC技术的不断发展，市场竞争的日趋激烈，用户对IC料带...
日期：2023-07-21阅读：154
满足晶圆级封装微型化的曝光设备
在过去的几年中人们已经有几次预言由于受到物理限制单个晶片的尺寸不可能再缩小，但实际上芯片的...
日期：2023-07-21阅读：198
基于有限状态机模型的光刻版图自动布局系统
摘要：采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统。将布局的各个阶段定义...
日期：2023-07-21阅读：161
应用于PHEMT器件的深亚微米T形栅光刻技术
摘要：PHEMT器件和基于它的高频单片集成电路广泛应用于现代微波／毫米波系统。当PHEMT器件的栅长...
日期：2023-07-21阅读：193
光刻版数据处理中的工艺涨缩问题
摘要：介绍了集成电路行业中在光刻版数据处理时的工艺涨缩问题，分别讨论了正涨缩和负涨缩问题，...
日期：2023-07-21阅读：211
63.5mm×127mm英寸UT1X光刻版的设计及制造
摘要：提出一种新的UT 1X光刻版规格:63．5mm×127mm，与原来的76．2mm×127mm的UTlX光刻版适用于...
日期：2023-07-21阅读：214
TD覆层处理技术
一． 技术简介 热扩散法碳化物覆层处理（Thermal Diffusion Carbide Coating Process）,简称T...
日期：2023-07-21阅读：139
阵列波导光栅复用／解复用器新技术
摘要：阵列波导光栅是正在迅速发展的密集波分复用网络关键器件之一应用的热点。本文综述了阵列波...
日期：2023-07-21阅读：180
TC4/SiC扩散焊接工艺研究
摘 要：陶瓷/金属连接构成的复合构件作为结构材料可以获得金属、陶瓷的性能互补，并降低复合材...
日期：2023-07-21阅读：313
纳米电子／光电子器件概述
摘要：本文主要概述了纳米电子／光电子器件的分类，并提出发展纳米电子／光电子器件的几点建议。...
日期：2023-07-21阅读：254
光子晶体研究进展
光子晶体是八十年代末提出的新概念和新材料，迄今取得异常迅猛的发展，是一门正在蓬勃发展的有前...
日期：2023-07-21阅读：227
硅基光子晶体的研究
从真空管到超大规模集成电路，人类跨出了巨大的一步、半个世纪以来，电子器件的迅猛发展使其广泛...
日期：2023-07-21阅读：111
新型的光子晶体材料
1 光子晶体简介 随着人类科学技术的飞速发展，社会不断进步，人们对认识客观世界的能力提出越...
日期：2023-07-21阅读：142
光子晶体研究现状及发展趋势
具有不同介电常数的介质材料在空间上呈周期性变化时,在其中传播的光波的色散曲线将成带状结构,当...
日期：2023-07-21阅读：326
光子晶体的概念
作为一种新的物理概念，光子晶体（Photonic Crustal）的诞生是在1981年，由美国物理学家E. Yablo...
日期：2023-07-21阅读：251
PID调节器对制备纳米钛薄膜的重要作用
摘要：简述了IBAD（离子束辅助沉积）法制备纳米钛膜的过程中，关键工艺因素是如何将衬底温度维持...
日期：2023-07-21阅读：178
自组装半导体量子点在纳米电子器件中的应用
摘要：随着微电子工艺逐渐逼近其物理极限，具有量子特性的纳米电子器件的研制被提上日程。自组装...
日期：2023-07-21阅读：270
平面带隙结构在微波和毫米波集成电路中的应用
１引言 光子带隙结构是在１９８７年由ＵＣＬＡ的Ｙａｂｎｏｌｏｖｉｔｃｈ提出的，其基本工作...
日期：2023-07-21阅读：113
