P沟道MOS管(PMOS)的导通本质上是通过栅极施加负电压来形成导电沟道。当栅源电压 VGS 低于阈值电压 VGS(th)(典型值-0.5V至-5V)时,栅极下方的P型半导体中会感应出空穴导电通道,实现源极(S)和漏极(D)之间的电流流通。
电压极性要求
栅极(G)电压必须低于源极(S),且压差需超过阈值电压
示例:若阈值电压 VGS(th)=?2V,则至少需要 VGS=?3V 才能可靠导通
完全导通状态
当 VGS 达到 -10V 时,漏源导通电阻 RDS(on) 降至(约几十毫欧)
此时漏极电流 ID 由负载决定:ID=RloadVDD?VDS
截止区:当 VGS 高于阈值电压(如 -0.5V),沟道完全关闭,漏极电流接近零。
可变电阻区:在 VGS 足够负且 VDS 较小时,PMOS表现为可控电阻,电流随 VDS 线性变化。
饱和区:当 VDS 增大到 ∣VGS?VGS(th)∣ 后,电流趋于稳定,进入恒流状态。
栅极电压生成
开关速度优化
减小栅极回路电阻(通常取10-100Ω)以加快充放电
注意栅极电容 Ciss 的影响,大功率PMOS需强驱动能力
防护措施
高端电源开关
将PMOS源极接电源正极,栅极控制通断
优势:关断时负载完全断电,无待机功耗
电平转换电路
利用PMOS实现3.3V与5V系统间的双向电压转换
特点:无需方向控制信号,自动适应电平差异
防反接保护
电源输入端串联PMOS,利用体二极管实现反向截止
比二极管方案损耗更低(毫欧级 vs 0.7V压降)
导通损耗:PMOS的 RDS(on) 通常比同规格NMOS高2-3倍,大电流应用需谨慎计算温升
体二极管:内置寄生二极管在快速开关时可能引发意外导通,高频应用中需外接肖特基二极管分流
布局规范:栅极走线尽量短,避免与高频信号线平行,防止耦合干扰
电压极性:PMOS用负压导通,NMOS需正压
导通电阻:相同尺寸下PMOS导通损耗更大
应用定位:PMOS适合高端控制,NMOS更适合低端驱动和高频电路
设计口诀:
"P管导通负压控,栅源压差要足够;
高端开关是本职,电平转换也好用;
驱动速度比N慢,内阻问题别忽略。"
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