从参考中汲取的与信号相关的电荷完全由特定的 DAC 拓扑决定。因此,它是可预测的,并且可以通过用另一个消除参考电压纹波的信号相关电荷来消除信号相关电荷来稳定参考。基于在其交错流水线 SAR ADC 中使用辅助 DAC,Imec 现在已经成功地实施了这种参考稳定技术。
图 1电容参考稳定的基本原理图 1显示了这种稳定技术的基本概念。当输入信号被采样到主 DAC 时,参考电压也被采样到参考电容器 Cref,同时辅助 DAC Caux 被放电(步骤 1)。当主 DAC 然后根据代码 B1 切换以生成残差时,辅助 DAC 的代码相关数量的单元也连接到参考节点(步骤 2)。通过为每个代码 B1 选择合适的 Caux 大小,可以使主 DAC 和辅助 DAC 汲取的电荷总和保持恒定。参考电压下降,但下降现在与信号无关。,主 DAC 重置为原始状态。此操作还从参考中提取与信号相关的电荷。通过对第二个辅助 DAC Creset 使用相同的稳定技术,第二个参考电压降也变得与信号无关(步骤 3)。参考缓冲器现在只需为 Cref 充电恒定数量的电荷,这大大放宽了其带宽要求。
图 2描绘了实现上述稳定技术的 2× 交错流水线 SAR ADC 的示意图。在这个架构中,关键的残差是阶段生成的一个残差。因此,仅当主 DAC 生成此残差时才应用稳定技术。该 DAC 使用 2 个子 DAC 用于正输入和负输入范围,这减少了开关能量,但也导致代码 B1 非常非线性映射到辅助 DAC Caux 的正确设置,以消除电荷的信号依赖性由主 DAC 绘制。交错流水线 SAR ADC图 2 2×交错流水线 SAR ADC 示意图LUT 与粗略 SAR 量化器同时处理,以大大减少关键时序路径。为了填充 LUT,具有内置偏移的比较器将终参考电压与标称值 Vref0 进行比较,校准引擎根据代码 B1 调整 Caux 设置。Creset 的设置很接近分段线性解码器。
芯片显微照片测试芯片已采用 16 纳米 FinFET 技术制造。区域为 350×325 μm 2,其中 16% 用于参考稳定方案,包括 50pF 的 Cref。图 4显示了使用电容稳定技术测得的谐波减少量。对于高速运行,Caux 和 Creset 都显着提高了 SFDR(无杂散动态范围),并且杂散被抑制到 80 dBFS 以下。在 303 MS/s 时,SNDR(信噪比加失真率)在低频和奈奎斯特输入下分别为 64.0 dB 和 69.3 dB。功率仅为 3.6 mW,导致的 Walden 和 Schreier FoM 分别为 9.2 fJ/conv.-step 和 170.2 dB,如图 5所示。
图 4使用辅助 DAC 减少杂散ADC 与不同的架构图 5 ADC 与不同架构的比较这些结果表明,可以通过使用辅助 DAC 来稳定参考电压,这些 DAC 可以消除由于 SAR ADC 中的 DAC 切换而导致的参考电压的信号相关压降。当 DAC 重置时也应用时,参考节点上的负载与信号无关,这显着降低了对参考缓冲器和/或片上去耦电容的要求。免责声明: 凡注明来源本网的所有作品,均为本网合法拥有版权或有权使用的作品,欢迎转载,注明出处。非本网作品均来自互联网,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责。