英特尔将下一代旗舰CPU Nova Lake委托台积电2nm制程生产,这一举动与其力推的18A工艺形成微妙对比。
1. 战略动因的多维解读
1.1 技术可行性
18A虽宣称等效台积电2nm,但实测数据:
晶体管密度:台积电N2(480MTr/mm2) vs 18A(~400MTr/mm2)
能效比:N2在3GHz下功耗低8-12%
2. 产能博弈
指标 | 台积电N2 | 英特尔18A |
---|---|---|
2025年产能 | 30k wpm | 15k wpm |
良率目标 | >85% | >70%(初期) |
美国CHIPS法案要求:2026年前本土产能占比>25%
折中方案:旗舰产品用台积电,非关键芯片留本土
4.1 制程竞赛现状
台积电:N2已获苹果/AMD/英伟达订单
三星:3nm GAA良率仍徘徊在55%
英特尔:18A试产延迟导致客户观望
4.2 市场份额预测
厂商 | 2023年 | 2025年(预测) |
---|---|---|
台积电 | 58% | 63% |
三星 | 32% | 28% |
英特尔 | 10% | 9% |
5.1 关键参数
指标 | 台积电N2 | 英特尔18A |
---|---|---|
栅极间距 | 45nm | 50nm |
金属层堆叠 | 15层 | 12层 |
SRAM位单元 | 0.021μm2 | 0.024μm2 |
5.2 封装技术
台积电CoWoS-L:支持12颗HBM3e集成
英特尔Foveros Direct:硅桥间距缩小至25μm
6.1 英特尔挑战
资本支出激增(2024年320亿vs台积电400亿)
内部工艺与代工业务冲突
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