美光计划投资36亿美元，用于1-Gamma工艺技术

    根据了解，美光将在日本广岛的工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV光刻机，以制造下一代存储芯片。
    美国存储芯片大厂美光科技将把EUV光刻技术引入日本，投资5000亿日元（约36亿美元）用于1-Gamma工艺技术。美光也将获得日本政府提供的约2000亿日元(15亿美元)的补贴。
    报道称，美光新引入最先进的光刻机并开始1-Gamma芯片的开发，也代表着日本在芯片尖端领域的最新一步。
    除了研发DRAM的美光之外，日本政府已经花费数十亿美元鼓励台积电增加其在日本的芯片产能，并为日本本土芯片企业Rapidus提供资金，以实现在2027年生产2纳米芯片的梦想。