美国提升芯片产业影响力,打破ASML对EUV光刻设备的垄断

    应用材料公司于 3 月 1 日向英特尔提供了 VeritySEM 10 系统。“有了这种半导体芯片制造设备，可以简化 EUV 光刻，并以环保的方式降低成本，”它说。
    供货前，ASML是全球唯一一家EUV光刻设备供应商。这家荷兰公司设备的特点是需要进行双重构图，即对基板进行双重蚀刻，这需要增加水和电的使用量以及更长的过程。
    Applied Materials 的设备基于单一图案化。“假设每月使用 VeritySEM 10 处理 100,000 片晶圆，通过每片晶圆节省 50 美元和 15 千瓦的电力，可以节省 2.5 亿美元的成本，”它解释说，并补充说，“每片晶圆的用水量和二氧化碳排放量分别减少 15 升和 0.35 千克。”
    据业内人士透露，ASML的垄断即将结束，美国在各种半导体相关行业的存在感将增加。“美国正在越来越多地将这些行业内部化，包括材料、零部件和设备以及设计和制造，以提高其在该行业的影响力，”其中一位人士表示。