测量技术与仪器涉及所有物理量的测量，对于材料、工程科学、能源科学关系密切。目前的发展趋势有以下几点：
（1）以自然基准溯源和传递，同时在不同量程实现国际比对。如果自己没有能力比对就要依靠其它国家。
（2）高。目前半导体工艺的典型线宽为0.25μm，并正向0.18μm过渡，2009年的预测线宽是0.07μm。如果定位要求占线宽的1/3，那么就要求10nm量级的，而且晶片尺寸还在增大，达到300mm。这就意味着测量定位系统的要优于3×10-8，相应的激光稳频应该是10-9数量级。
（3）高速度。目前加工机械的速度已经提高到1m/sec以上，上世纪80年代以前开发研制的仪器已不适应市场的需求。例如惠普公司的干涉仪市场大部分被英国Renishaw所占领，其原因是后者的速度达到了1m/sec。
（4）高灵敏，高分辨，小型化。如将光谱仪集成到一块电路板上。
（5）标准化。通讯接口过去常用GPIB，RS232，目前有可能成为替代物的高性能标准是USB、IEEE1394和VXI。现在，技术者设法控制技术标准，参与标准制订是仪器开发的基础研究工作之一。
测量技术在不断的发展，更新换代。仪器生产企业面临的是机遇，更是挑战。落后的就得面临淘汰或者并购的危险。
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