SUSS——的三维、MEMS、先进封装、纳米压印设备供应商，于2008年10月7日宣布，其手动光刻机，外加一个纳米压印的组件，即可对大面积图形重复进行亚50纳米的压印。
这项新技术名为“基板完整压印光刻”（SCIL），由荷兰埃因霍恩飞利浦研究所开发，通过技术协议转让给SUSS MicroTec。
硬质模版纳米压印光刻（NIL）分辨率高，但面积小，软质模版压印面积大，但分辨率通常低于200纳米，SCIL刚好弥补两者的缺陷。SCIL性能卓越，既能实现基板上大面积图形的完整性，又能满足其高，是纳米压印强有力的工具，尤其适用于高亮度发光二极管，高效激光二极管，及新一代硬盘驱动器的位图媒介（BPM）。
SCIL可以很容易地现场安装在SUSS MA6/8光刻机上。MiPlaza是位于荷兰埃因霍恩高科技园区的开放型创新中心，隶属于飞利浦研究所，向全世界高科技机构提供技术、服务和基础建设。MiPlaza目前继续对SCIL进行深入研究。
“与飞利浦研究所和MiPlaza的合作，表明 了SUSS向市场提供创新技术的一贯承诺，”SUSS MicroTec光刻总经理Rolf Wolf说，“SCIL对于大面积纳米压印，是一项重大突破。”
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