Vishay发布新款具有“R”失效率的QPL钽氮化物薄膜片式电阻

　　日前，Vishay Intertechnology, Inc.宣布，推出通过MIL-PRF-55342的新系列QPL表面贴装片式电阻---E/H（Ta2N），该电阻具有公认的高可靠性，失效率达到每1000小时0.01%的“R”级。新款E/H（Ta2N）电阻采用耐潮的钽氮化物电阻膜技术制造，为军工和航天应用提供了更好的规格指标，包括0.1%的公差和25ppm/℃的TCR.

　　今天推出的Vishay Dale薄膜QPL电阻适用于军工和航天应用的控制系统，在这些场合下，工作过程中的潮气或长时间存放都是需要考虑的问题。器件的钽氮化物电阻膜使器件的耐潮能力超过MIL-PRF-55342规定限值的50倍。

　　E/H（Ta2N）薄膜电阻具有小于25dB的超低噪声，以及低至0.5ppm/V的电压系数。电阻的卷绕端接采用牢固的粘附层，覆盖一层电镀镍栅层，使器件可在+150℃温度下工作，而粘附层产生的电阻还不到0.010Ω。

　　器件有M55342/01~M55342/12共12种外形尺寸，功率等级为50mW~1000mW,工作电压为30V~200V,根据公差，阻值范围49.9Ω~3.3MΩ。

　　E/H （Ta2N）薄膜电阻现已量产，供货周期为八周到十周。