GENESIS操作流程

时间:2008-09-02

  1、桌面打开CSH后输入GET即可点动GENESIS 2000,输入用户名各密码,登陆到GENESIS 2000的主画面。

  2、在FICE菜单下GREATE .IOB.名选择.DATE BASE.确认后打开刚建立的IOB,并打开INPUT。

  3、确认所读资料的位置及文件名的正确性(按照MI;对照文件名的文件,方件大小)

  4、IDENTIFY FILE/CHECK所读资料的正确性(包括资料的数据格式,检查INPUT图形的正确性:INPUT是否有WARNING,WARNING是否会对图造成影响等,并SAVE JOB。

  5、设定MATRIX、LAYER、NAME层的合并、REYISTER定DATAM POINT.ORIG。COPY现时STEP并更名为“A”并保留备份, 的STEP为“B”。

  6、 在新的STEP中(“B”)做:CONSTRUET.PADS。(注意先做防焊,以此做参照再做线路层)并SACE IOB。

  7、 新建SEP(“C”)COPY:“B”中的资料并以“B”为原始资料备份。

  8、打开STEP“(制作钻孔层、CDRLU TOOL MANGER)。注使用加大钻孔参数FLASH-GOLD,HASL,是否有用到特殊孔径50MIL1和2)MIL1内条分板孔、定义孔的属性。(机台识别孔)检查所有孔径、孔数是否与MI中相符。

  9、制作ROUT层,定义PROFILE。

  10、删除PROFILE以外的图形,CHEEK所有PROFILE外的图菜是否为所需图形。是否需移入到板内并GALE IOB。

  11、DATE CLEANUP做一些所有层的数据优化附加层,删除重复的图形数据,做蚀刻补偿。

  12、CHECK所有层的资料是否与“A”中的资料一致,做COMPARE,确认所做的修改产生METDIST FROM“B”与“C”中的NETLIST 对比确认所做修改没有问题后SAME JOB。

  13、ANALYSIS ALL,所有层看产生的多少来决定做DFM

  14、DFM:(所有需要修改与优化的层,根据所产生的手动自动编辑图形,至MI跟制程工艺的要求值)

  15、COMPARE层和COMPARE“A”与“C”中的METLIST

  16、填充PINROLE跟SLIVER,此动作可多做几次并SAVE IOB

  17、PANEL排版,新建STEP为“D”,在此STEP中定义PANEL SIZE(按照MI要求制作排版)注意:小PANE排版的STEP固定为PNLI要求输出的PANEL的STEP固定为PANEL

  18、排宽版厚分别有小PANEL跟大PANEL的SCRIPTS运行SCRIPTS检查SCRIPTS所产生图形的正确性。并SAVE JOB

  19、层的优化:(对所有层COPTIMILE LEVECS)通过测试优化到3层可达到我厂的需求

  20、OUTPUT 光绘文件

  21、制作README注明菲林的性质,拉长系数高

  22、压缩文件,保存到服务器,COPY到光绘房

  23、退出GENESIS 2000

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