Producer Celera系统的关键是其完整的多级沉积和处理工艺,使得NMOS 器件中PECVD的张力达到了业界。整个工艺在同一系统中进行,不必接触空气,使器件可靠性和性能得到了化。
应用材料公司资深副总裁,薄膜事业部总经理Farhad Moghadam博士表示:“Producer Celera是台在同一主机上整合了应力形成氮化物沉积和UV处理技术的系统,这是和其他产品重要的不同之处。对于张力的增加能够显著提高性能的NMOS器件来说,它突破了性能提升的障碍。其独特的配置已经经过了验证,并被用于多家客户在的生产。”
多重应力工程薄膜经常被先进器件所采用来提高晶体管驱动电流,从而优化其速度和功耗性能。应力薄膜和新型高K/金属栅极技术的结合将进一步推动芯片缩小超越45纳米技术节点,使摩尔定律得以继续生效。
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