帮助实现光电器件硅材料化的类晶体管调节器

时间:2007-04-29

  近,Intel公司的科学家们取得了一项重要的研究进展。他们采用硅制造工艺制作了一种新颖的、类似晶体管的快速光电调节器,该器件能够将数据解码成光束。采用标准硅工艺制作的该器件能够在PC、服务器和其它电子器件以及终在计算机内部建立起低成本、宽波段的光纤通讯连接。Intel硅材料光电器件研究总监Mario Paniccia说:“我习惯于将这种需求称作‘光电器件硅材料化’,即采用标准CMOS达到目前光电子器件所具备的功能。”

  Intel的研究人员在2月12日的Nature杂志上了他们的研究结果。首先,他们将通过硅晶体的一束光分成两半,然后分别通过带电荷的类晶体管器件。光通过类晶体管器件时会发生相互作用导致相位发生改变。因此,当它们重新汇合离开芯片时,取决于两束光之间相位移(相差)的不同,可以出现开关两种状态,其切换速度大于1GHz,比之前硅器件的速度快了50倍。光的开关状态可以转换成数据传输时所需的1和0两种状态。

  “实际上,我们是用晶体管来控制光的相位,这是突破点。”Paniccia解释说,“我们已经制作了这样一个调节器。我将光通过波导传送到硅芯片并将其分成两束,然后使其通过可以改变相位的结构——相位移器。如果相位移器关闭,两束光线重新汇合后输出的是数字信号1,以上过程都是通过硅芯片完成的。如果我在类晶体管器件上加电压,将相位移器打开,光线通过它时就会产生相位移;如果我将两束光的相位差调到180度,当它们重新汇合时我就可以得到数字信号0。”  

 Intel副总裁兼技术官Patrick Gelsinger说:“这是实现在计算机内部以光速传播数据的光学器件应用的重要一步,是能够引起半导体业界震动的一项突破,终将会形成新的器件和应用领域。”

该光电调节器是建立在硅材料基础上的MOS电容波导相位移器。它包含N型掺杂硅晶体层(SOI晶片的硅单晶层)和P型掺杂的多晶硅以及中间的栅极氧化层。硅晶体中的载子可以改变折射率和光谱吸收,结果使光束发生相位改变。(资料)

  现在,商业化光电器件的制造通常都采用昂贵的特殊材料,需要复杂的制造过程,因此限制了其在一些化市场例如网络和电讯上的应用。“到目前为止,还没有实验证明硅器件可以达到大约20MHz的传播速度。”Paniccia说,“你可以使用磷化铟、铌酸锂以及其它III-V族材料制作运行速度超过40GHz甚至100GHz的光电调节器,但是这些都是III-V族特殊材料。如果你想用硅材料制作光电器件,并获得所需功能,与目前2.5~4Gb/sec的运行速度以及10Gb/sec的发展趋势相比较,20MHz真的做不了什么。我们取得的突破不只是开发了类晶体管相位移技术,而是开发了一种运行速度极快的新技术。我们的实验结果显示,目前这代产品的速度已经超过了10GHz,同时解码速度也达到了1Gb/sec。这是在速度和性能上的巨大飞跃。我们相信,通过该项技术的进一步微缩,将来速度还会变得更快。”

  Paniccia指出,光电器件和硅材料的整合主要有两个问题:“其一,硅是间接能带间隙材料,不能发射激光。其二,速度太慢。我想我们已经基本克服了其中一个障碍。”他解释说,Intel使用了外部激光源,激光可以通过连接器导入和导出光纤。

  信号接受要求硅器件中具有光子探测器,可以将光信号重新转换成电子信号。“终,你需要采用我们称为被动对准的方法将这些器件组装在一起。现在,组装成本通常占总成本的50%~60%。”Paniccia说。“如果我们采用被动对准技术,我们可以将硅晶体作为主体,将其它元器件通过光刻和其它自对准技术整合在一起,减少器件的总成本。”

  Paniccia指出,还要有智能系统。尽管整合并不简单,与CMOS兼容是光电器件长期发展的关键。“这就是为什么这种类晶体管器件非常有用的原因。将来总有一天,你能将所有这些电子器件都完全整合在同一片硅材料中。”


  
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