双面抛光

时间：2007-04-29

对大直径晶圆许多要求之一是平整和平行的表面。许多300毫米晶圆的制造采用了双面抛光，以获得局部平整度在25´25毫米测量面时小于0.25微米到0.18微米的规格要求。4缺点是在后面的工序中必须使用不划伤和不污染背面的操作技术。

下一篇：背处理

免责声明: 凡注明来源本网的所有作品，均为本网合法拥有版权或有权使用的作品，欢迎转载，注明出处。非本网作品均来自互联网，转载目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责。