三星电子开始开发 EUV 薄膜,缩小与台积电的市场份额差距

  

    三星电子已开始开发先进的极紫外 (EUV) 薄膜，以缩小与晶圆代工竞争对手台积电的市场份额差距。

    该公司半导体研究所近日发出招聘启事，开发满足EUV透过率92%的薄膜。该公司在 2021 年 10 月举行的三星代工论坛上表示：“我们已经开发出 EUV 透射率为 82% 的薄膜，并计划在今年年底将透射率提高到 88%。”开发了一种透光率为 88% 的薄膜。这意味着这家韩国科技巨头在大约一年内实现了目标，并提出了将透光率提高 4 个百分点的新发展路线图。
    三星电子还开始研究用于高数值孔径 (NA) 的薄膜，这被称为下一代 EUV 工艺。该公司在最新的招聘启事中提到了基于新材料的下一代薄膜的开发。它宣布将与外部研究机构合作开发和评估由碳纳米管和石墨烯制成的 EUV 薄膜。该公司还计划挑选研究人员负责为该公司自行开发的纳米石墨薄膜 (NGF) 设计量产设备。
    一位分析师表示：“三星电子推动开发EUV薄膜的目的是为了快速赶上代工第一大公司台积电。”
    EUV 薄膜是使用光在半导体晶圆上印刷电路形状的曝光工艺所必需的材料。它们用作防止异物附着在口罩上的盖子。薄膜通过最大限度地减少工艺过程中的缺陷并延长昂贵掩模的使用寿命来帮助降低成本。然而，由于 EUV 光被大多数材料吸收的特性，商业化是困难的。专家表示，三星电子虽然提升了薄膜技术水平，但尚未将这种材料引入其晶圆代工/DRAM生产线，判断将这种材料应用于量产线还为时过早。
    三星电子的竞争对手台积电自2019年以来一直在其量产线中使用自己开发的EUV薄膜。这家台湾晶圆代工巨头在2021年宣布将比2019年增加20倍的自有EUV薄膜产能。