第二季半导体产能利用率为91.2%

根据Semiconductor International Capacity Statistics发布的报告，今(2006)年第二季半导体产能利用率为91.2%，高于季的89.5%与去年同期的89.1%。0.12微米或以下的先进制程之产能利用率达到96.9%，相较于季的96.8%、去年同期的95.4%与去年第四季的98.9%。第二季每周平均wafer starts为159万，比季增加4.4%，比去年同期增加16.8%。整体的制造产能每周平均为174万wafer starts，比季增加2.4%，比去年同期增加14%。 

在代工生产领域，第二季产能利用率更是高达94.2%，相较于季的91.7%与去年同期的83%。这个领域的制造产能为280,300 wafer starts，比季增加3.1%；实际上的产量为264,100 wafer starts，比季增加5.9%。在十二?领域，产能为181,400 wafer starts，比季增加17.1%；实际上的产量为175,000 wafer starts，比季增加17.8%；产能利用率为96.7%，相较于季的96.2%。