可以通过在 SiC 功率器件上运行 HTGB(高温栅极偏置)和 HTRB(高温反向偏置)压力测试来评估性能。Littelfuse 在 175°C 的温度下对 1200V、80mΩ SiC MOSFET 进行了压力测试,使用不同的VGS值 并对器件施加长达 1000 小时的压力。结果如图 1所示。
图 1 HTRB 和 HTGB 压力测试结果(未观察到相关变化)栅极氧化物是 SiC MOSFET 的关键元件,因此其可靠性极为重要。栅氧化层可靠性的评估分为两部分。部分基于 TDDB(随时间变化的介质击穿)测试。根据施加在栅极氧化物上的电场(从 6 到 10 MV/cm),器件寿命会发生显着变化。图 2显示了在不同温度下进行的该测试的结果。在第二部分中,对常见的 1200V、18mΩ 硅 MOSFET 进行了加速栅极氧化物寿命测试。两个测试结果之间的密切一致证实 SiC MOSFET 是可靠的器件,在 T=175°C 和VGS =25V下工作时,预计寿命超过 100 年。
图 2 加速栅氧化层寿命测试结果与 SiC 技术相关的另一个重要方面是短路鲁棒性。为了检查其 SiC 功率器件的短路稳健性,Littelfuse 开发了自己的专用测试板。图 3所示的电路包括一个 1200V 80mΩ SiC MOSFET (DUT)、一个仅出于安全原因使用的 IGBT (Q1) 和三个电容器。结果如图 4所示, 根据施加的栅极电压(12V、15V、18V 或 20V),短路耐受时间会发生显着变化。
图3 短路测试电路图 4 不同栅极电压下的短路耐受时间
因此,对 1200V 160mΩ SiC MOSFET 进行了重复的 UIS (R-UIS) 测试,仅提供该器件可处理的能量的 25%(125mJ 而不是 500mJ)。该测试以 20 毫秒的 UIS 周期重复 100,000 次。SiC MOSFET 展示了出色的 R-UIS 能力:在 R-UIS 压力测试 100,000 次循环后,关键电气性能(例如导通电阻、阈值电压、击穿电压和漏极漏电流)没有观察到参数偏移。运行模拟也可以获得相关信息。图 5显示了应用 V DS 执行的仿真结果 1600V 到 MOSFET:栅极氧化层上的电场可达 4 MV/cm,并产生大量热量。通常对栅极氧化物应用适当的屏蔽。
图 5 栅极氧化物屏蔽是实现雪崩耐受性的关键因素RECOM系列 RxxP22005D 和 RKZ-xx2005D 专为满足 SiC MOSFET 日益增长的市场需求而设计。这两个系列具有非对称输出,用于控制输入电压范围为 5V 至 24V 的 SiC 驱动器。绝缘确实是在整个设计过程中仔细考虑的一个重要因素:两个新系列都提供的安全性,隔离电压约为 4 kVDC。寄生电容被强烈衰减,从而消除了振荡问题并允许在功率共享模式(不对称电流、不对称功率)下运行。除了符合 RoHS 指令外,新设备还获得了 UL-60950-1 (图 6)。
图 6带有 RxxP22005D 的典型应用电路 []免责声明: 凡注明来源本网的所有作品,均为本网合法拥有版权或有权使用的作品,欢迎转载,注明出处。非本网作品均来自互联网,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责。