高性能CMOS集成电压比较器设计

　　电压比较器是对输入信号进行鉴幅与比较的电路，其功能是比较一个模拟信号和另一个模拟信号(参考信号)，并以输出比较得到的二进制信号。其在A／D转换器、数据传输器、切换功率调节器等设备中有着广泛的应用。在高速度、高A／D转换器中，比较器的和速度直接影响转换电路的转换和转换速度等关键指标；在数据传输器中，比较器的性能对数据传输的误码率有着很大的影响；在切换功率调节器中，调节器的功率调节性能在很大程度上依赖于电压比较器的性能。因此，是高工作频率、高增益、低失调电压、高性能的电压比较器，在模拟集成电路和数／模混合集成电路中十分重要。仿真结果表明，该电压比较器适用于高速A／D转换器、高速数据传输器及高性能切换功率调节器等设备中。

　　1 比较器电路设计

　　这里介绍的电压比较器是传统的预放大锁存比较器，采用预放大器、锁存比较器和输出缓冲级级联的方式来实现，其原理框图如图1所示。

　　如图2中部分所示，M20和M21构成差分放大管；M4，M6组成有源负载。M2，M3分别与M4，M6并联，以向差分放大管注人大电流，同时也减小了M4和M6的宽长比，降低了电路的输入电容，以利于电路提高频率特性。该放大器的增益可表示为：

　　从式(1)可以看出，在管子宽长比确定后，Av与(1+ISD2／ISD4)1/2成正比，若M2向M21注入大电流，则在保证高频时能提高放大器的增益。该放大器的增益为12．9 dB(4．415 7倍)，3 dB带宽为582．64 MHz。

　　1．2 锁存比较电路

　　锁存比较电路是整个比较器的部分，它应能区分毫伏量级的输入信号差。如图2中第二部分所示， M17,M18交叉互连实现正反馈，以提高比较电路的增益。利用前级预放大器的输出，控制锁存器输入电流I+，I_的变化，若I_远大于I_，则M16和 M18导通，Vout-△0，Uout+=(2L16I+／WμnCox)+VTHN；若I_增大而I+减小，M18的漏一源电压升高，当高到M17的 VTHN时，M17导通，此时M17管开始抽取原来流过M16管的电流，这会使M16管的漏一源电压下降，并导致M18管截止，电路的输出状态发生转换。当I-增大到一定程度时会导致M18进入饱和区，此时临界电流值I-=(I+)(W17μnCox／L17)／(W16μnCox／L16)，该电流临界点也是输出电压发生转换的临界点。同理可得，当I+增大时，发生转换的电流临界点I+=(I-)(W17μnCox／L17)／ (W16μCox／L16)。

　　该锁存比较器发生转换时的输入电压差为1．37 mV。从锁存器的瞬态特性可以看出，在输入信号发生跳变时，通过比较输入信号和2．5 V参考信号，锁存比较器给出两个向相反方向变化的输出信号，实现了比较功能。

　　1．3 输出缓冲驱动级

　　输出缓冲驱动级(又称后放大器)的主要作用是把锁存比较电路的输出信号转化成逻辑电平(0 V或5 V)。如图2中第三部分所示，M8，M10，M11,M13,M14,M15组成差分自偏置电路，它能吸人和供出较大的电流，使比较器在驱动大的容性负载时速度不受摆率的限制。M9，M12组成一个反相器，用作附加的增益级，同时实现负载电容和自偏置差分放大器之间的隔离。要使输出缓冲级工作在线性区，输入信号的幅度一般要在1～3．5 V之间，所以在电路中串入M26管来提升锁存器输出电压的幅值。

　　2 电路仿真

　　在5 V电源的电压下，Vin-端加2．5 V参考信号，在Cadence软件平台下用Spec-tre工具对基于CSMC 0．5 μmCMOS工艺模型的电路进行仿真，得到比较器的增益、带宽、上升延时、下降延时、输入共模范围如图3所示。

　　用Cadence自带的Dracula工具对版图进行验证，通过设计规则检查(DRC)，该版图符合CSMC0．5μmCMOS工艺的相关设计规则。通过电路图和版图的对照(LVS)，版图中的器件及器件间的连接情况与电路图中相一致，保证了该版图是图2所示电路图的物理掩模图形集。此外，在做完DRC和 LVS后，版图的电气规则检查(ERC)也同时完成了，这是Dracula工具的一个主要特点。ERC显示该版图中无短路、断路等电气规则错误。

　　4 结 语

　　在CSMC O．5μm CMOS工艺条件下，采用预放大器、锁存比较电路和输出缓冲级级联的锁存比较电路结构，设计了一个高速、高的高性能集成电压比较器，它具有低输入失调电压、低功耗的特点。完成从电路原理图设计到版图设计和验证(DRC，LVS)以及工艺角仿真和分析的整个设计流程。从仿真结果可以看出，这一高性能电压比较器适用于高速A／D转换器、高速数据传输器及高性能切换功率调节器等设备中。3 版图设计
　　集成电路的版图是芯片在实际制作时物理掩模图形的集合，是从电路原理图到实际芯片的关键过渡环节。版图的设计直接影响着芯片的终性能。模拟集成电路版图的设计要求更高，它不仅有技术成分，还需要许多艺术性的布局和走线。

　　基于CSMC 0．5μm CMOS(N-Well硅栅)工艺设计的集成电压比较器版图如图4所示。其中电阻为制作在N-well中的P+扩散条；MOS管为NORMAL器件，其沟道宽长为多晶硅栅覆盖有源区部分的宽长。包围有源区的N+diff和P+diff，用来表明管子是NMOS管，还是PMOS管，版图面积为57μm×69 μm。