铁电随机存取存储器

时间:2008-11-20

  FRAM是半导体技术的新发展。顾名思义,FRAM不像RAM那样的易失性。相反,它不需要用电源来保持数据。在FRAM里是利用铁电材料的特性来存储数据的,结构与EEPROM的结构相类似,而只是在控制栅和浮动栅之间具有铁电物质,FRAM单元的剖视图见1所示。

  图1 以0.5μm技术制造的FRAM单元的剖视图(左边的两个浅色的矩形是在半导体
  表面的控制引线;右边的水平矩形是实际的FRAM单元,在两个电极之间看到的
  暗层是铁电材料。PRAM单元的宽度大约为2μm,由富士通公司提供)

  FRAM具有智能卡存储器所有理想的性能,它只需用5V来编程,编程时间大约为100ns,而编程次数大约是10亿次,集成密度与闪速EEPROM相似。当然,PRAM也具有两个缺点:第1是有限的读次数,即需要进行刷新循环;第2因它的工艺处理很困难则影响更大。目前还未能把这项技术用在智能卡微控制器里。当然,在几年之后可能会发生变化,因为FBAM具有几乎完全替代EEPROM的所有特性。

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