吴德馨 |
(中国科学院微电子研究所,北京,100029) |
摘要 由于集成电路设计水平和工艺技术的提高,集成电路规模越来越大,已可以将整个系统集成为一个芯片(目前已可在一个芯片上集成108个晶体 近年来由于整机的便携式发展和系统小型化的趋势,要求芯片上集成更多不同类型的元器件,如Si-CMOSIC、GaAs-RFIC、各类无源元件、光机 SiP与SOC相比较具有: (1)可提供更多新功能; SOC和SiP二者互为补充,一般认为SOC主要应用于更新换代较慢的产品和军事装备要求高性能的产品,SiP主要用于换代周期较短的消费类产 由于SiP的复杂性,无论是在设计和工艺技术方面都提出了更高的要求。在设计方面需要系统工程师、电路设计、版图设计、硅技术设计、测试和制造等工程师团队一起合作共同实现的性能、的尺寸和的成本。首先通过计算机辅助模拟设计采用的IC芯片、功率和无源元件等参数及布局;设计高密度布线中要考虑消除振荡、过冲、串扰和辐射等;热耗散和可靠性的考虑;基板材料的选择(包括介电常数、损耗、互连阻抗等);制定线宽、间距和通孔等设计规则;设计出母板的布图。 SiP采用近十年来快速发展的倒装焊互连技术,倒装焊互连比引线键合具有直流压降低、互连密度高、寄生电感小、热特性和电学性能好等优点,但费用较高。SiP的另一大优点是可以集成各种无源元件。无源元件在集成电路中的用量日益增加,如在手机中无源元件和有源器件之比约为50:1。采用近年来发展的低温共烧多层陶瓷(LTCC)和低温共烧铁氧体(LTCF)技术,即在多层陶瓷内集成电阻、电容、电感、滤波器和谐振器等无源元件,就如同在硅片中集成有源器件一样。此外,为了提高管芯在封装中所占面积比多采用两个以上的芯片叠层结构,在Z方向上进行三维集成。其叠层芯片之间超薄柔性绝缘层底板的研制、底板上的铜布线、互连通孔和金属化等新工艺技术得到了发展。 SiP以其进入市场快、更小、薄、轻和更多的功能的竞争力, 目前己在工业界得到广泛地应用。其主要应用领域为射频/无线应用、移动通信、网络设备、计算机和外设、数码产品、图像、生物和MEMS传感器等。 到2010年预计SiP的布线密度可达6000cm/cm2,热密度达到100W/cm2,元件密度达5000/cm2,I/O密度达3000/cm2。系统级封装设计也像SOC的自动布局布线一样朝着计算机辅助自动化的方向发展。Intel公司的SiP技术已将五片叠层的闪存芯片集成到1.0mm的超薄封装内。日本东芝的SiP目标是把移动电话的全部功能集成到一个封装内。日本近预测如果全世界LSI系统的1/5采用SiP技术,则SiP的市场可达1.2万亿日元。SiP以其进入市场快的优势,在未来几年内将以更快的增长速度发展。我国在加快发展集成电路设计和芯片制造的同时,应当加大系统级封装的研究和开发。 |
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