中科院<a class="bl" title="院属机构>科研机构>高技术领域>光电技术研究所" href="javascript:void(0)">光电所</a>以其独特的技术优势和质量管理、技术服务保障为依托，创新研发的URE-2000/25型i线深度曝光光刻机，深受科研院所、高等院校、微细加工生产厂家的青睐。与此同时，朝鲜、新加坡等东南亚国家的用户也十分看好，陆续前来订购。用户评价<a class="bl" title="院属机构>科研机构>高技术领域>光电技术研究所" href="javascript:void(0)">光电所</a>在产品开发和高可靠性保障方面能严格按国际质量体系标准运作，树立了“高标准、高品质”的产品形象。近期为浙江的用户提供的一台URE-2000/25型i线深度曝光光刻机设备，在生产线上日连续工作20小时以上，月产
芯片40余万只，且随着工艺水平的提高，其生产能力将可大大提高，设备可靠性完全符合生产线的需要。
该机在微细加工实现深度光刻中具有突出特色，采用球气浮自动调平调焦技术及高倍率双目双视
显微镜对准技术。具备接触和不接触曝光方式与定时、定剂量两种曝光剂量设定功能。采用高反射率大包容角椭球
反射镜、i线高透过率光学玻璃材料和
光学镀膜技术增加曝光能量，采用小聚光角等侧壁增陡技术，采用积木错位式蝇眼
透镜平滑衍射效应提高光刻分辩力等先进技术。达到国际同类设备先进水平。光刻分辩力可达0.8～1μm，线条侧壁陡度高达85°，对深层光刻线条高宽比孤立线条可达60：1、等间距线条优于20：1，曝光速度在胶厚600μm(SU8胶)情况下，曝光时间小于10分钟。具有分辩力高，套刻准，线条陡直，线条高宽比大，曝光速度快等特点，可用于毫米量级深层光刻工艺生产的新型i线光刻设备。
