芯片制造污染控制关键概念及术语

时间:2007-04-29

浮质 可移动的离子污染物
风淋 微粒

前厅 工艺用气体

细菌 湿法工艺化学品

洁净室洁净等级 服务室

洁净室设计 温度,湿度,烟雾

污染源 全面的洁净室规划策略

去离子水 隧道策略

洁净服要求 纵向层狀气流

高效微粒空气过滤器 (HEPA) 超低频工作站
(VLF)
微米 小型环境

低温清洗 臭氧清洗

芯片清洗技术 芯片清洗用化学品



  
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