二氧化硅层的主要作用

时间：2007-04-29

①在MOS电路中作为MOS器件的绝缘栅介质，是MOS器件的组成部分
②扩散时的掩蔽层，离子注入的(有时与光刻胶、Si3N4层一起使用)阻挡层
③作为集成电路的隔离介质材料
④作为电容器的绝缘介质材料
⑤作为多层金属互连层之间的介质材料
⑥作为对器件和电路进行钝化的钝化层材料

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