覆盖测量(overlay metrology)技术厂商KLA-Tencor近日宣称推出一款45nm工具——Archer 100光覆盖测量系统，设计用于显著增强浸没和未来双成型(patterning)蚀刻技术的度和生产率。Archer平台经过广泛的重新设计，提升度超过30%，系统使用率高达20%，在几乎所有其它关键指标上都有主要改进。
KLA-Tencor参数化解决方案部副总裁Joseph
Laia指出，“浸没蚀刻大幅度改进了由于误差覆盖而引起的图形良品率，Archer 100系统特别解决了客户关键的覆盖挑战，提供了支持45nm及以下光刻的技术平台。”
在浸没蚀刻方法中，独特的效果需要新型的分析能力和更多采样，来保证调整并检测覆盖误差源。Archer 100系统的新型μAIM(MicroAIM)通过仿真覆盖敏感的
芯片结构，仍使用芯片上同一块小区域，为覆盖工具提供了更多信息。这种技术使得在广泛种类的曝光和工艺条件下稳定性增强。
Archer 100有效解决了低
对比度测量问题，新照明系统能改进45nm及以下大批量
内存制造的测量和可靠性。系统产量每小时超过80片晶圆。
