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MOS场效应管即金属-氧化物-半导体型场效应管,英文缩写为MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor),属于*缘栅型。 MOS场效应管主要特点: 在金属栅*与沟道之间有一层二氧化硅*缘层,因此具有很高的输入电阻(*高可达1015Ω)。它也分N沟道管和P沟道管,*号如图所示。通常是将衬底(基板)与源*S接在一起。 MOS场效应管分类: 根据导电方式的不同,MOSFET又分增强型、耗尽型。所谓增强型是指:当VGS=0时管子是呈截止状态,加上正确的VGS后,多数载流子被吸引到栅*,从而“增强”了该区域的载流子,形成导电沟道。耗尽型则是指,当VGS=0时即形成沟道,加上正确的VGS时,能使多数载流子流出沟道,因而“耗尽”了载流子,使管子转向截止。 以N沟道为例,它是在P型硅衬底上制成两个高掺杂浓度的源扩散区N 和漏扩散区N ,再分别引出源*S和漏*D。源*与衬底在内部连通,二者总保持等电位。图(a)*号中的前头方向是从外向电,表示从P型材料(衬底)指身N型沟道。当漏接电源正*,源*接电源负*并使VGS=0时,沟道电流(即漏*电流)ID=0。随着VGS逐渐升高,受栅*正电压的吸引,在两个扩散区之间就感应出带负电的少数载流子,形成从漏*到源*的N型沟道,当VGS大于管子的开启电压VTN(一般约为 2V)时,N沟道管开始导通,形成漏*电流ID。 国产N沟道MOSFET的典型产品有3DO1、3DO2、3DO4(以上均为单栅管),4DO1(双栅管)。它们的管脚排列(底视图)见图。 MOS场效应管比较“娇气”。这是由于它的输入电阻很高,而栅-源*间电容又*小,*易受外界电磁场或静电的感应而带电,而少量电荷就可在*间电容上形成相当高的电压(U=Q/C),将管子损坏。因此了厂时各管脚都绞合在一起,或装在金属箔内,使G*与S*呈等电位,*积累静电荷。管子不用时,*引线也应短接。在测量时应格外小心,并采取相应的*静电感措施。
NEC、LT、syncpower
多型号
结型(JFET)
N沟道
耗尽型
AM/调幅
CHIP/小型片状
ALGaAS铝镓砷
视型号定(V)
视型号定(V)
视型号定(pF)
视型号定(dB)
视型号定(mA)
视型号定(mW)