H2O2 FeCl3感應器

3.氧化剂感测器(NaCLO3  SENSOR): 电解式(电能→电能)

●H2O2(双氧水)之概念及测定原理

双氧水的氧化性很强，在氯化亚铜氧化为氯化铜的过程中，能增加蚀刻的速度，就再生剂而言，其扮演着很重要的角色。虽然，空气中的氧也会产生再生反应，但是，一旦生产量增加时，氧的再生速度就来不及，所以为了*蚀刻速度，作为氧化剂的双氧水是*的。双氧水传感器，是将双氧水做为蚀刻液再生反应的*剂。在*小需要量下，控制*适当的蚀刻液浓度。因蚀刻速度的安定化和使用量的减少，可大幅*品质、降*。目的:即是以「如何使用*小需要量的双氧水来管理药液品质」作为参考量。

   基于这样的参考量，本再生控制器并不是管理双氧水，而是检测出蚀刻药液的蚀刻能力；一方面用*少的双氧水来补足蚀刻液中，由氧气(O2)再生的不足部份，一方面维持蚀刻生产的稳定性。

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●双氧水传感器的测定原理

铂金点在蚀刻液中反应时，依据药液的浓度和蚀刻能力(蚀刻速度)会产生荷量的变化。双氧水传感器会检测出所发生的电荷量(出力)，并传送到“ALTEC”控制器。“ALTEC”控制器再将双氧水浓度和蚀刻速度等的相关资料入力；双氧水传感器所得到的出力在控制器上计算并显示。其单位不是MOL/L(浓度)而是用MV来表示。

●一价铜离子和二价铜离子的含量对于测定值而言会有何变化？

当基板的铜(Cu)溶解于蚀刻药液(CuCl2)中，二价铜会转变为一价铜。(随着铜的溶解，电位值既ORP值会下降)。一价铜和HCl会因空气中的O2而产生再生反应。但是，生产量大时，空气的O2来不及再生的部份，便需要H2O2做氧化剂。

当一价铜一增加，ORP值就会下降，而蚀刻液中的一价铜再生为二价铜时，ORP值就会上升.