供应真空实验炉，真空炉，高温实验炉

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产品用途介绍：真空实验炉，额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃，使用不同的加热元件，型号*，**，同时也可满足于不同工艺实验而*制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属*件淬火及*需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。

产品性能介绍：

1. 真空实验炉：炉体采用双层炉壳结构，双层炉壳之间装有风机，可以快速升降温，炉壳表面温度低。
2. 真空实验炉：炉膛材料采用优质的*氧化铝多晶纤维真空吸附制成，*50%，加热元件采用康泰尔电阻丝。
3. 真空实验炉：温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意设置。

产品规格及型号介绍：

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