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快恢复二*管是指反向恢复时间很短的二*管(5us以下),工艺上多采用掺金措施,结构上有采用PN结型结构,有的采用改进的PIN结构。其正向压降高于普通二*管(1-2V),反向耐压多在1200V以下。从性能上可分为快恢复和*快恢复两个等级。前者反向恢复时间为数百纳秒或更长,后者则在100纳秒以下。
肖特基二*管是以金属和半导体接触形成的势垒为基础的二*管,简称肖特基二*管(Schottky Barrier Diode),具有正向压降低(0.4--0.5V)、反向恢复时间很短(10-40纳秒),而且反向漏电流较大,耐压低,一般低于150V,多用于低电压场合。
这两种管子通常用于开关电源。
肖特基二*管和快恢复二*管区别:前者的恢复时间比后者小一*左右,前者的反向恢复时间大约为几纳秒~!
前者的优点还有低功耗,大电流,*速~!电气特性当然都是二*管阿~!
快恢复二*管在制造工艺上采用掺金,单纯的扩散等工艺,可获得较高的开关速度,同时也能得到较高的耐压.目前快恢复二*管主要应用在逆变电源中做整流元件.
肖特基二*管:反向耐压值较低40V-50V,通态压降0.3-0.6V,小于10nS的反向恢复时间。它是具有肖特基特性的“金属半导体结”的二*管。其正向起始电压较低。其金属层除材料外,还可以采用金、钼、镍、钛等材料。其半导体材料采用硅或砷化镓,多为N型半导体。这种器件是由多数载流子导电的,所以,其反向饱和电流较以少数载流子导电的PN结大得多。由于肖特基二*管中少数载流子的存贮效应甚微,所以其频率响*为RC时间常数限制,因而,它是高频和快速开关的理想器件。其工作频率可达100GHz。并且,MIS(金属-*缘体-半导体)肖特基二*管可以用来制作太阳能电池或发光二*管。
快恢复二*管:有0.8-1.1V的正向导通压降,35-85nS的反向恢复时间,在导通和截止之间*转换,*了器件的使用频率并*了波形。快恢复二*管在制造工艺上采用掺金,单纯的扩散等工艺,可获得较高的开关速度,同时也能得到较高的耐压.目前快恢复二*管主要应用在逆变电源中做整流元件.
通常,5~20A的快恢复二*管采用TO-220FP塑料封装,20A以上的大功率快恢复二*管采用顶部带金属散热片的TO-*塑料封装,5A一下的快恢复二*管则采用DO-41,DO-15,或D0-27等规格塑料封装。
SF26 *2G *2GA
中光
DO-15 S* SMA
无铅*型
贴片+直插
盒带编带包装