一、应用范围概述： 电解电容器生产用纯水; 电子管生产用纯水; 显像管和阴*射线管生产用纯水; 黑白显像管荧光屏生产用纯水; 液晶显示器的生产用纯水; 晶体管生产用纯水; 集成电路生产用纯水 ; 电子新材料生产用纯水; 二、典型工艺流程 预处理系统－反渗透系统－ 中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线*器－抛光混床－精密过滤器－用水对象 （≥18MΩ.CM）（传统工艺） 预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线*器－抛光混床－0.2或0.5µm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM） （*新工艺） 预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线*器－0.2或0.5µm精密过滤器－用水对象 （≥17MΩ.CM） （*新工艺） 预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线*器－0.2或0.5µm精密过滤器－用水对象 （≥15MΩ.CM） （*新工艺） 预处理系统－反渗透系统－ 中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线*器－精密过滤器－用水对象 （≥15MΩ.CM） （传统工艺）
