真空溅射镀膜<font color=red>电源</font>

真空溅射镀膜电源-概述:

 本产品以优质*IGBT作为主功率器件，以*微晶(又称纳米晶)软磁合金材料为主变压器铁芯,主控制系统采用了多环控制技术,结构上采取了*盐雾酸化措施。电源产品结构合理，**。该电源以其体积小、重量轻、*率、高*的*性能成为可控硅电源的更新换代产品。适用于实验、氧化、电解、镀锌、镀镍、镀锡、镀铬、光电、冶炼、化成、腐蚀等各种精密表面处理场所。在阳*氧化、真空镀膜、电解、电泳、水处理、电子产品老化、电加热、电化学等方面也得到用户一致好评。*是在PCB、电镀、电解行业领域,成为众多客户的*电源产品。

真空溅射镀膜电源-特点:

1、体积小、重量轻：

体积与重量为可控硅整流器的1/5-1/10，便于您规划、扩建、移动、维护和安装。

2、**：

开关电源由于采用了高频变压器，转换效率大大*，正常情况下较可控硅设备*效率10%以上，负载率达70%以下时较可控硅设备*效率30%以上。

3、输出稳定性高：

由于系统反应速度快（微秒级），对于网电及负载变化具有*强的适应性，输出精度可*1%。开关电源的工作效率高、所以控制精度高，有利于*产品质量。

4、输出波形易于调制：

由于工作频率高，其输出波形调整相对处理成本较低，可以较方便的按照用户工艺要求改变输出波形。这样对于工作现场*工效，*加工产品质量有较强作用。

真空溅射镀膜电源-技术指标:

真空溅射镀膜电源-应用特点:

1、 降低孔隙率,晶核的形成速度大于成长速度,促使晶核细化。

2、 *结合力,使钝化膜击穿,有利于基体与镀层之间牢固的结合。

3、 *覆盖能力和分散能力,高的阴*负电位使普通电镀中钝化的部位也能沉积,减缓形态复杂*件的突出部位由于沉积离子过度消耗而带来的“烧焦”“树枝状”沉积的缺陷,对于获得一个给定特性镀层(如颜色、无孔隙等)的厚度可减少到原来1/3~1/2,节省原材料。

4、 降低镀层的内应力,*晶格缺陷、杂质、空洞、瘤子等,容易得到无裂纹的镀层,减少添加剂。

5、 有利于获得成份稳定的合金镀层。

6、 *阳*的溶解,不需阳*活化剂。

7、 改进镀层的机械物理性能,如*密度降低表面电阻和体电阻,*韧性、*性、*蚀性而且可以控制镀层硬度。

传统的电镀抑制*的产生、*电流分布、调节液相传质过程、控制结晶取向显得*作用,面对络合剂和添加剂的研究成了电镀工艺研究的主要方向。纳米开关电源解决了传统电泳电源-存在的缺陷。

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(电流10A～20000A,电压3V～600V),生产周期一周左右。

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