韩国* 薄膜厚度测量仪 ST5030
地区:江苏 南京
认证:
无
图文详情
产品属性
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Stage Size | 300mm x 300mm |
Measurement Range | 100?~ 35?(Depends on Film T*e) |
Spot size | 40?/20?,4?(option) |
Measurement Speed | 1~2 sec./site (fitting time) |
Application Areas | All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measure |
Option | Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST) Anti-vibration table |
Revolving nosepiece | Quintuple Revolving Nosepiecs |
Focus | Coaxial Coarse and Fine Focus Controls |
Incident illumination | 12v 100W Halogen Lamp |
本产品适用于半导体领域内,测量薄膜厚度的光学分析仪器。我公司的ST产品的测量时间*短暂,测量方法是属于非接触非破坏方法,使用显微镜可以测量很小区域内的再现性和准确性,现在,我们公司的薄膜测厚仪是远远*于使用其它方法的其它产品。 【】厚度测量领域内的分解能力属于*初微小领域测量 【】可以*于测量微小领域的厚度分布 【】可以测量Wafer上的多层薄膜厚度与光学常数-折射率与吸收率 【】可以实时的测量厚度变化量与具有角度显示,打印,保存功能 【】可以快速的在1秒之内接受data并且*data