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光谱共聚焦原理:是一束多波长混合光束,聚焦到一个点上,由于各种波长光线折射率不同,聚焦的位置也不同。聚焦在物体反射表面上的波长的光线,经过聚焦后通过一个微孔到达光谱分析仪器,其它波长的光线由于没有聚焦在物体表面,反射的光线只有极少能通过微孔,因此测量光线主波长就可以对应地得到该物体表面的高度。
该测量方法的优点是,对物体表面光学特征不敏感,可以测量各种颜色,各种反射度,各种透射率,包括透明材料和镜面反射材料。而且由于光线从四面八方照射到样品,对表面突变的边缘不易产生影响测量的阴影效应。由于光谱分析仪器的分辨率可以达到纳米级别,且对外界干扰光不敏感,所以测量精度高且稳定性好。
扫描臂和测量平台可分体的模块化设计,使得要测量很大的样品只需把扫描臂固定到更大的平台上,具有更好的灵活性和可扩展性。
扫描臂主体框架采用稳定精密的单块花岗石架构,提高稳定性,减少机架采用不同材料产生的热膨胀变形。设计时充分考虑到发热部件的安装位置和散热,减少发热部件对架构的热变形影响。扫描轴使用光栅尺闭环位置反馈控制,没有丝杆驱动产生的发热膨胀以及磨损和间隙,运动精度稳定可靠。
亚微米级别的测量对震动非常敏感。测量平台可以配套安装气浮隔振器,利用带阻尼机构的空气悬挂吸收和隔离大部分外界震动,可以减少样品移位和读数跳动,提高精度。平台自带水平仪,方便用户随时监控平台是否放置水平,提高测量可靠性。
采用测量探头运动样品不运动的设计,可以避免样品产生震动和摇晃,并避免了样品运动和空气碰撞产生的气流影响,可以大幅度提高测量精度,对于未固化的浆料、胶水、油墨湿膜以及薄或柔软的、底部不平整度大于测量分辨率的基材来说,这一特点非常重要。
高度测量分辨率: 8~22nm(8@采用过采样平均时)
重复精度: 0.1um(@10mm距离的标准表面)
最高采样频率: 900样品/S (测量头静态可达2000样品/S)
量程: 400um(考虑到倾斜和变形,推荐350um以下)
可测量表面: 漫反射/透明/镜面,固态液态均可(银浆、油墨、涂层等均可)
Z轴可调整范围: 35mm
最大扫描距离: 50mm
扫描轴线性度: 0.001%(校准后)
扫描轴最小步距:1um(更小需要定制)
最快扫描速度:30mm/S(更大可定制)
平台尺寸:600x800(更大可定制)
使用环境要求:远离震动和强光,无尘,恒温建议放在基础层楼层稳固的桌子(20℃±1℃,至少10万级洁净度,照度低于100LUX,湿度<60%RH且较稳定)
电源电压: 220V正负10%,交流50Hz
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HM3-50
REAL
2-350um
0.1um
磁悬浮,超精密导轨