8N60场效应管
地区:江苏 苏州
认证:
无
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产品属性
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品牌/商标 | 国产,* | 型号/规格 | 多型号/规格 |
种类 | 结型(JFET) | 沟道类型 | N沟道 |
导电方式 | 耗尽型 | 用途 | S/开关 |
封装外形 | CER-DIP/陶瓷直插 | 材料 | GE-N-FET锗N沟道 |
开启电压 | 来电垂询(V) | 夹断电压 | 来电垂询(V) |
低频跨导 | 来电垂询(μS) | *间电容 | 来电垂询(pF) |
低频噪声系数 | 来电垂询(dB) | *大漏*电流 | 来电垂询(mA) |
*大耗散功率 | 来电垂询(mW) |
场效应管大,根据漏*-源*间所加VDS的电场,源*区域的某些电子被漏*拉去,即从漏*向源*有电流ID流动。从门*向漏*扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型,ID饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡,并不是电流被切断。
在过渡层由于没有电子、空穴的自由移动,在理想状态下几乎具有*缘特性,通常电流也难流动。但是此时漏*-源*间的电场,实际上是两个过渡层接触漏*与门*下部附近,由于漂移电场拉去的*电子通过过渡层。因漂移电场的强度几乎不变产生ID的饱和现象。其次,VGS向负的方向变化,让VGS=VGS(off),此时过渡层大致成为覆盖全区域的状态。而且VDS的电场大部分加到过渡层上,将电子拉向漂移方向的电场,只有靠近源*的很短部分,这更使电流不能流通。