供应AE Cesar射频电源 磁控溅射电源

强大而多功能的 Cesar® 射频电源平台可提供*稳定的射频功率输送性能，以及一个多样化的模式选择，每种模式都具有一套*的功能（2、4、13.56、27.12和40.68 MHz；0.3至5 kW；拥有多种用户界面和输入选择），从而使您能够选择一套*适合您应用的组件——而无需*发生器所需的漫长交付期。

高质量的组件和较少的*件数量使*性和产品生命周期均实现*优化，从而使您的投资和制程生产力得到*大化的利用。一个*而高度灵敏的操作菜单（可在该组件的多功能前面板上找到，并显示在一个大的液晶显示屏上）带来了*的便利性——*了操作人员的效率，并使培训成本*小化。

典型应用：

高密度等离子体化学气相淀积（HDP CVD）

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）

刻蚀-RIE/ICP

物*相沉积

等离子清洗

优点