上海荧光光谱仪iEDX-150WT

　　上海荧光光谱仪iEDX-150WT技术指标：

　　多镀层，1～4层

　　测试精度：0.01 um

　　多次测量重复性误差<0.1％

　　元素分析范围从铝(Al)到铀(U)

　　测量时间：10-60秒

　　Si-PIN探测器，能量分辨率为149电子伏特

　　微焦X射线管50KV/1mA，钨靶，焦斑尺寸 75um, 寿命大于3万小时

　　7个准直器及6个滤光片自动切换

　　XYZ三维移动平台，最大荷载为5公斤

　　高清CCD摄像头，精确监控位置

　　多变量非线性去卷积曲线拟合

　　高性能FP/MLSQ分析

　　平台尺寸 700x580x25 mm

　　平台移动范围 300(X)x300(Y)x25 (Z)mm

　　上海荧光光谱仪iEDX-150WT镀层厚度检测仪：

　　由于X射线具有穿透性，多镀层分析时，每一层的特征X射线在出射过程中，都会互相产生干扰。随着镀层层数的增加，越靠近内层的镀层的检测误差越大；同时外层镀层由于受到内层镀层的影响，测试精度也将大大下降。为解决多镀层的影响，在实际应用中，多采用实际相近的镀层样品进行比较测量（即采用标准曲线法进行对比测试的方法）来减少各层之间干扰所引起的测试精度问题。