供应水基太阳能硅片清洗剂

OD-1004清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。OD-1004清洗剂在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够*代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。经*半导体研究所等多家单位应用测量表明：该清洗剂清洗效果相当于或略*传统清洗工艺，成本却大大降低，只有传统清洗工艺成本的10~30％，而且*无腐蚀性、对人体*、对环境无污染，经济效益显著。

技术指标：

外观：               淡黄色液体

PH值：               8~10

粘度：               80~160厘泊

**物含量：      ＞40％

有害金属杂质含量：    ＜1ppm

使用方法：

配制清洗液时，将去离子水加热到40～60℃，但不要*过60℃。或者用室温去离子水配制亦可。然后按下列体积比进行配制。

 OD-1004清洗剂 ︰去离子水＝1︰19

将配制好的OD-1004清洗液倒入石英杯中,清洗液应浸没过硅片或晶体为宜,然后将石英杯置于*声波清洗设备中（槽中应加适量的去离子水）进行*声波清洗5分钟左右,倒掉清洗液,再用热去离子水冲洗5分钟左右,以冲净为宜。清洗大量硅片或晶体时采用*清洗机进行清洗更为方便。