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Atonarp 适用于半导体过程控制在线质谱仪 Aston™
上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™, 通过使用分子传感技术, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断, 为半导体过程控制提供解决方案, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 在现有生产工艺工具上加装 Aston, 可在短时间内实现晶圆更高产量!
Aston™ 在线质谱仪特性
实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝
半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据
采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用
可与大批量生产工具完全集成
Aston™ 作为一个强大的平台, 可以取代多种传统工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.
Atonarp Aston™ 技术参数
类型 |
Impact-300 |
Impact-300DP |
Plasma-200 |
Plasma-200DP |
Plasma-300 |
Plasma-300DP |
型号 |
AST3007 |
AST3006 |
AST3005 |
AST3004 |
AST3003 |
AST3002 |
质量分离 |
四级杆 |
|||||
真空系统 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
检测器 |
FC /SEM |
|||||
质量范围 |
2-285 |
2-220 |
2-285 |
|||
分辨率 |
0.8±0.2 |
|||||
检测限 |
0.1 PPM |
|||||
工作温度 |
15-35“℃ |
|||||
功率 |
350 W |
|||||
重量 |
15 kg |
|||||
尺寸 |
299 x 218 x 331 LxWxH(mm) |
400 x 240 x 325 LxWxH(mm) |
Atonarp Aston™ 应用: 半导体工艺过程控制和优化的重大发展, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率
Aston™ 是一款全新设计坚固耐用的紧凑型在线质谱仪, 适用于半导体制造和工业过程控制应用中气体监测和控制, 高定量精度和实时性与生产稳健性和可靠性相结合, 例如半导体 dry pump 尾气侦测分析, 实现在线监控,诊断.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物过渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching:识别跟踪分子
若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱仪详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士13918837267
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Aston
Atonarp
2-285
0.1ppm