研发型感应耦合等离子刻蚀系统 北京特博万德科技有限公司

北京特博万德科技有限公司长期供应 研发型感应耦合等离子刻蚀系统， 

研发型感应耦合等离子刻蚀系统具体信息如下：

主要特点：

1. 可以适用于Si，Ge，GaAs，InP，GaN, InSb，ZnS, GaN, SiC, 金属等的刻蚀

2. 最大可用于6”wafers

3. 氦气背面冷却

4. 8路气体，O2, SF6，CH4, H2, Cl2, N2, Ar, CHF3

 研发型感应耦合等离子刻蚀系统为进口产品，质量保证，众多客户见证，值得信赖，

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