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北京特博万德科技有限公司长期供应 等离子增强化学气相沉积PECVD,进口产品,质量保证,相关产品信息如下:
主要特点:
1. 单个基片、碎片或带承片盘的基片(3”-12”尺寸)
2. 适用于实验室和试制线生产
3. 沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物和无定形硅
4. 操作简单通过打开室盖,直接将基片装入工艺室
5. 可选配一个ICP 或三极管(Triode)源,三极管可获得更高密度等离子
可选择
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非接触式转速表
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