等离子增强化学气相沉积PECVD 北京特特博万德科技有限公司

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北京特博万德科技有限公司长期供应 等离子增强化学气相沉积PECVD,进口产品,质量保证,相关产品信息如下:


主要特点:

1. 单个基片、碎片或带承片盘的基片(3”-12”尺寸)

2. 适用于实验室和试制线生产

3. 沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物和无定形硅

4. 操作简单通过打开室盖,直接将基片装入工艺室

5. 可选配一个ICP 或三极管(Triode)源,三极管可获得更高密度等离子


高品质,质量众多客户见证,如有需要,欢迎来电咨询。

型号/规格

可选择

品牌/商标

美国