北京特博万德科技有限公司长期供应高精度半自动光刻机，
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能力
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数值
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X, Y方向运动距离，精度
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+/-6mm；
0.1微米
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Z方向精度
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+/-0.5微米
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Theta; 精度
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+/-3°；0.001°
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光罩旋转
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+/-15°
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控制方式
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软件控制，多种工艺参数可自行设定
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卡盘移动控制
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电子杆
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光刻模式
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靠近、软接、硬接和真空接触
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预对准能力
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X,Y方向+/-25微米；Theta 0.5°
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精对准能力
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小于1微米
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光罩尺寸
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最大 14”×14”
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适用的样品尺寸
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50 ～ 300mm
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光源选择
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近紫外，中紫外和深紫外
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