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产品属性
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Q150T的机壳是整体成型的结构坚固耐用,配有气冷的70L/S的涡轮分子泵,自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空水平,真空腔室直径为165mm(6.5英寸)并带有防爆装置。Q150T具有“真空闭锁”功能,可在设备不工作时维持腔室的真空度,从而保证高真空的性能。
根据不同的应用方向,Q150T细分为三个型号:
Q150TS:高分辨率溅射镀膜仪,可溅射易氧化和不易氧化金属,可选各种溅射靶材,包括场发射电镜常用的铱和鉻。
Q150TE:高真空镀碳仪,可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜,是TEM应用最理想的选择。
Q150TES:集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式,镀膜头可在几秒内快速更换,只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型,并显示相应的操作模式。
注:上述各型号都可配备如下可选的附件:金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等
触摸屏控制:
Q150T操作十分简单,直观的触摸屏,即使最不熟练的操作者也可以自由操作,同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用,设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。
镀膜插入头选项:
具有一系列可互换、即插即用的镀膜插入头
溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料。直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材。
可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料(仅为TS和TES型号)
适用于3.05mm碳棒蒸发插入头
适用于6.15mm碳棒蒸发头,建议使用3.05mm直径的碳棒,它们更容易控制、更经济。
碳丝蒸发插入头
金属蒸发和光阑洁净头,包括向上蒸发或向下蒸发(仅为TE和TES型号)
样品台选项
Q150具有各种易更换的样品台,drop-in 落入式设计具高度可调(除旋转行星台)。
·标准配置为旋转台, 直径为50mm
·可预设倾斜角度的旋转台(可选)
·可变角度旋转行星台(可选)
·可用于4〞晶圆的平面旋转台(可选)
·显微镜载玻片样品台(可选)
其它选项
·用于高样品的加高腔室
·膜厚监测器(FTM)
·用于测量低和高真空的全范围真空计(皮拉尼真空计)
Q150T全自动镀膜系统技术指示:
工作腔室:150mm(内径)*127mm(高)硼硅酸盐玻璃腔室,并带整体安全防护罩
触摸屏用户界面:带有触摸按钮的全图像界面,包含多达十个镀膜程序,可提醒何时需要维护。
样品台:转速为8-20rpm的旋转台
真空系统:
涡轮子分子泵:带有内部空气却的涡轮分子泵,抽速为70L/s
旋转机械泵:抽速为50L/m的两级旋转机械泵,带有油污过滤器
真空测量:皮拉尼真空计作为标配,可选全量程真空计(10428)
极限真空度:10-5mbar两级
溅射工作真空范围:5*10-3到5*10-1mbar
工艺参数:
溅射:0-150mA。可预设膜厚(需FTM选项)或使用内置定时器。
碳蒸发:稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发,确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。
电流脉冲:1-90安培
金属蒸发和光阑清洁头:用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑。
金属蒸发头被安装用于向下蒸发,但向上蒸发也能通过配装两个延长电极(可提供)而获得。
Services and other information:
气体:溅射工作气体氩气,99.999%(TS和TES版本);氮气,放气破真空气体(可选)
电源需求:90-250V~50/60Hz 1400VA 包括旋转机械泵;110/240V可选择电压
尺寸:仪器机箱585mm宽*470mm*410mm高(总高650mm)
仪器总重量:33.4KG
溅射靶材和碳耗材供应:Q150S和Q150TES标配铬靶,但可选用的其它靶材范围很宽,包括那些广泛用于SEM制样的靶材,如:Au金靶,Au/pd金钯,Pt铂靶,和Iridium铱靶。对非SEM应用,可选用的靶材包括:AI铝,Ta钽,ITO氧化铟锡,Fe铁,W钨,Ti钛,等等:碳制品包括高纯度碳棒和碳丝纤维。
可选择
英国