太阳能扩散炉主要满足光伏电池生产线对125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、单晶硅硅片进行扩散工艺。目前有第二代闭管扩散炉和第三代软着陆扩散炉。
技术指标：
可处理硅片尺寸：125mm×125mm、156mm×156mm
外型形式：卧式1—4管结构
载片量：400片／管
扩散方式：闭管扩散、软着陆全封闭
工作温度：200℃—1300℃
恒温区长度及精度：200mm—1100mm≤±1℃
单点温度稳定性、重复性： ≤±1℃／24h
温度控制：5段控温
总功率：120KVA
送片装置：悬臂推拉舟，碳化硅桨zui大载重17kg
气路系统：1—5路工艺气体／管
气体控制：进口MFC
控制方式：工控机、触摸屏
Thinnerwafers：180Um
Break rate：0.8％
方阻均匀度范围：片内±5％，片间±5％，批间±5％
