PhableR 100 紫外光刻机

PhableR 100 紫外光刻机提供了一种前所未有的功能，它是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE曝光技术，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很好；在"mask aligner"模式下，能非常轻松地获得微米尺寸的图形。

特点：

可达到步进光刻机的高分辨率
操作简单性与紫外曝光机相同
光子图形化的低成本解决方案

优势：

高分辨率（低于300nm pitch）
全场曝光
非接触式：防止掩膜受损及被污染
焦深几乎没有限制
表面不平的衬底也适用（如外延片）
均匀性高
具有套刻对准能力
商业化的可获得的光刻胶和材料都适用
使用传统的掩膜板（玻璃上镀铬）
频率倍增

型号/规格

PhableR 100

品牌/商标

Eulitha

供应PhableR 100 紫外光刻机