24日，举办了第26届技术研讨会，并披露了旗下工艺制程情况。按照台积电的说法，5nm工艺规划了两代，分别是N5和N5P。其中N5确定引入EUV（极紫外光刻）技术，并且已经在大规模量产之中。相较于N7，N5的功耗降低了30%、性能提升了15%，逻辑器件密度是之前的1.8倍。

N5P作为改良版，仍在开发中，规划2021年量产，相较于代5nm，功耗进一步降低10%、性能提升5%，据称面向高性能计算平台做了优化。

据手头资料，的5nm有望应用在A14（包括Apple Silicon PC处理器）、9000处理器、“骁龙875”、“天玑2000”、第四代EPYC霄龙处理器上等。

在7nm这一代上，实际上是三代，分别是N7、N7e和N7P，年底前要来的 Zen3家族是N7e。