EUV光刻机研发难在哪???

发布时间:2023/1/31 9:49:40

在半导体设备中,光刻机是心设备,决定了工艺的先进程度,EUV是当前的光刻机,可以制造7nm以下的工艺,仅有荷兰ASML公司能够生产,单价将近10亿元,下一代EUV甚至超过25亿元。

研发EUV光刻机到底有多难?还有别的公司可以制造出来吗?对于这样的疑问,ASML公司日前在财报会议上谈到了EUV的难点。

ASML表示,就ASML而言,它由数百个供应商组成,每个供应商在什么方面都是凸出的。

只要提到通快、蔡司和VDSL的名字,他们的工作就是的,这只是上百家供应商中的三个。

研发光刻机需要的不止是,它的诀窍是人,是大脑,ASML表示这些花了40年的时间。

物理学规律在都是一样的,但是ASML做到这一步有着数百家公司积累的知识,他们作为系统集成商做出了光刻机。(文章来源:驱动之家)

 

上一篇:天域半导体、锐石创芯等上榜,逾10家半导体公司开启上市辅导
下一篇:美国对华芯片管制,国产替代进程加速,沪硅产业如何“借东风”?